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晶圆剥离清洗机
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槽式清洗机
SCC-250
研磨后清洗:用于去除研磨磨粒(主要采用碱+界面清洗)
碱性腐蚀清洗:用于去除研磨后加工形变等
热处理前清洗:主要采用RCA清洗,依照客户工艺线路定制设备
热处理后清洗:主要采用RCA清洗,依照客户工艺线路定制设备
抛光后清洗:RCA清洗(DHF/SC-1/SC-2/O
3
处理)
最终清洗:RCA清洗(DHF/SC-1/SC-2/O
3
处理)
标准规格
晶圆
φ200 mm・φ300 mm 硅晶圆
处理片数
25片或50片批量处理
搬运方式
with cassette / cassette-less
晶圆间距
晶圆间距可调节为10 mm~7 mm或5 mm
干燥方式
温水提拉・IR・旋转干燥・马兰戈尼干燥
处理时间
1批(25片或50片)5分~6分
药液温度
最高100℃
药液槽
摇动・旋转・超声波
漂洗槽
鼓泡、QDR、可配置电阻计
厂务
纯水、氮气(空气传感器用)、CDA、电源、真空(传送用)
选配
臭氧发生装置、离子发生器等
LD&ULD
PFA・OPEN・FOSB・FOUP
离子发生器(可选)
晶圆传送
垂直轴(AC伺服驱动)+ 行走轴(AC伺服驱动)+ 夹具机构(气动)
药液
O
3
・HF・NCW・KOH・NH
4
OH・H
2
O
2
・HCL・EDTA・HCL・Citric Acid・DIW
产品特点
高工艺性能
通过简单的结构配置实现最优化的工艺
高产能
可实现槽间搬运的最短时间和最短距离的控制
易维护性
易维护性的布局以及模块化
热处理后清洗
主要采用RCA清洗,依照客户工艺线路定制设备